采用溶胶凝胶法和固相反应烧结法分别制备了BFO靶材和ZAO靶材,采用脉冲激光沉积法制备了ZAO/BFO/ITO玻璃异质结构,通过低温电输运测量系统研究了ZAO/BFO/ITO玻璃异质结构的电输运特性,对漏电流机制进行了分析并讨论了磁电阻效应;采用磁控溅射法分别在有无缓冲层镊酸锏(LaNiO3,LNO)的 Pt/Ti/SiO-/Si(111)基片上沉积了单层BFO多晶薄膜,通过X射线衍射、原子力显微镜和拉曼光谱对比了这两组BFO多晶薄膜的生长,揭示了LNO对BFO形貌和微结构的影响;通过系列不同直流偏压下PFM的极化翻转实验和单点铁电电滞回线的测试,分析了影响BFO多晶薄膜的铁电畴极化翻转的因素;采用熔剂烧结法生长了EMO和LMO单晶,通过侧面的PFM、斜抛面的PFM和逐层抛磨晶体 ab面的PFM扫描,实现了对EMO和 LMO铁电畴的立体成像,并得到了铁电涡旋畴相变和反演过程理想的实验结果。

创造性地设计出了npn型ZAO/BFO/ITO玻璃异质结构。由于BFO薄膜中含有大量氧空位,可将BFO薄膜当作p型半导体对待;与其他n型半导体材料结合的这一设计拓宽了BFO薄膜在电子器件等方面的应用方向。电输运特性研究结果表明:在低温60K—240K之间,该异质结构存在弱的整流行为;漏电流机制属于块体限制普尔-弗伦克尔发射机制(Bulk-limited Poole-Frenkel,BLPF);在正负偏流下,该异质结构的阻温曲线存在明显的差异,这归因于 BFO层中铁电极化的翻转以及半导体层和铁电体 BFO层之间的界面电荷耦合;在外磁场0.3T作用下,该异质结构表现为负的磁电阻效应,在160K 以下,随着温度的降低,磁电阻明显增大,BFO层自旋相关散射和异质结构的界面电阻是负磁电阻的主要原因。
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