《炬丰科技-半导体工艺》硅片清洗技术的演变
书籍:《炬丰科技-半导体工艺》
文章:硅片清洗技术的演变
编号:JFKJ-21-211
作者:炬丰科技
介绍
通过对硅表面的清洗和表面处理制备超净硅。集成电路在制造条件下发生了相当大的变化,在1993年。 这些变化的驱动力是不断增长的,生产高性能先进硅器件的要求,可靠性和成本。 这些电路的特征尺寸已经被放大了。在100纳米以下,器件结构可以包含多能级 金属化层与铜(铜)和特殊介质材料。
表面清洁和调理晶圆片的重要性
在半导体微电子器件的制造过程中,清洁衬底表面的重要性从固体出现之初就得到了认识。20世纪50年代的国家设备技术......因此,超净硅晶片的制备已成为一项重要的技术 。
前端加工表面制备技术要求(1):近期工艺
晶圆清洗和表面处理技术 略
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