消耗的功率小,触发是电场而不是电流。集成度越高,散热越难(FET)
只有多子参与导电,受温度影响较小
可以分为结型场效应管和绝缘栅型场效应管
绝缘栅型场效应管(MOSFET):使用较多
N沟道增强型MOS管
结构:

P型相对较大的,掺杂浓度较低的P型半导体(衬底)
左右各扩散了一个N型区。SIO2是很薄的
二氧化硅一极接了一个极板叫做栅极(g),控制极,对应b
s是源极(载流子的源泉,发源地) 对应e
d是漏极(载流子的漏出处)对应c
之所以叫绝缘栅,都是因为sgd都绝缘,省电,控制极没电流
工作原理:

左图:将源极和衬底接在一起。省略了一个极。如果MOS管是四个极则衬底是单独的,源极(s)和漏极(d)就可以互换。
首先d和s之间不加电压,g和s之间加电压ugs>0,向下的电场将空穴踢走,形成耗尽层。
如果电压继续增大,空穴往下,P的少子:自由电子吸上去。形成了一个电子的沟道(反型层),使sd导通。沟道里的多子是自由电子(N沟道)
如果ugs不变,沟道宽度不变。沟道的宽窄决定了电阻,沟道越宽,电阻越小。于是得到了一个由电压控制的可变电阻器。ugs决定了Rgs。
要让ds之间有电流,就需要在ds之间加一个电压
Ugsth是开启电压。当加的Ugs大于开启电压时,沟道开始形成
Ugs不变,让Uds逐渐上升
id电流处处相等,右侧电场大,速度快,所以电子少,沟道窄。
中间图出现的情况:称为预夹断

恒流部分:缝隙变长,电阻变大和电压的增大抵消,电流几乎不变

栅极和源极的电压能够在这个时候控制Id这个电流,成比例
N沟道耗尽型MOS管:在二氧化硅里天生带正电,沟道天生产生,直接加Uds就可以用了。
Ugs(off):夹断电压:加负电压使其截至

天生有沟道:结型

两个P是高浓度,在N的两边接s和d

栅极控制两个P,如果不加电压,耗尽层天生就会形成沟道

理解:电场方向由n指向两边的g,即从N指向P,耗尽层增多。沟道变窄。加到某一程度会夹断。
用PN结夹,所以是结型

如果有Id,则源极(s)向漏极(d)的电压逐渐增大,电压不相等,就会一边宽一边窄
Ugs<0的原因:如果大于0,两侧的g比s高,PN结导通。反之如果小于0,负离子向中间移动,正离子向两边移动
绝缘栅因为sio2易被击穿,所以容易坏


转移特性: 左图形成的最大条件是从恒流区拿来的。 输出特性:恒流区用于放大(要起到放大作用,先让场效应管工作在恒流区。然后控制Ugs,产生Id的变化


Ugs(th):Uds为一常量时,使Id大于0所需的最小值,是增强型的MOS管参数
Ugs(off):夹断电压,Uds为常量时,形成缝隙的电压
饱和漏极电流Idss:对于结型场效应管,在Ugs=0的情况下产生预夹断的漏极电流
Rgs(dc):栅源电压与栅极电流之比
gm是斜率

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