《炬丰科技-半导体工艺》亚微米沟槽冲洗和清洁
书籍：《炬丰科技-半导体工艺》
文章：亚微米沟槽冲洗和清洁
编号：JFKJ-21-1671
作者：华林科纳
引言
表面和亚微米深沟槽的清洗在半导体制造中是一个巨大的挑战。在这项工作中，使用物理数值模拟研究了使用脉动流清洗毯式和图案化晶片。毯式晶片清洗工艺的初步结果与文献中的数值和实验结果吻合良好。毯式和图案化晶片的初步结果表明，振荡流清洗比稳定流清洗更有效，并且振荡流的最佳频率是沟槽尺寸的函数。
介绍
微污染是大多数大规模生产的超大规模集成电路的产量损失[1]。传统上，晶片清洗工作专注于毯式晶圆。然而，化学和微粒污染自然发生在图案化的晶片也是如此。例如，离子注入、反应离子蚀刻(RIE)、湿法化学清洗所有留下的金属和/或化学物质图案化晶片表面上的污染物。跟随许多BEOL过程、污染物或化学品
可以留在战壕里。因此，有一个迫切需要开发有效的清洁技术并用亚微米尺寸沟槽冲洗晶片表面。盖尔和布斯纳娜研究了兆频超声波清洗和用于毯式晶片[2]的清洗工艺提供了一些早期的建模结果。尽管兆频超声波清洗目前被用于图案化晶片清洗的机理用于图案化晶片的兆频超声波清洗工艺不是很好理解。本文基于
毯式晶片的实验和数值研究清洗，去除亚微米级的污染物使用兆频超声波清洗的沟槽使用物理建模。
利用控制动量和质量守恒方程的有限差分解，模拟了湿清洗几何结构中的流体流动和污染物输运。对流动通过一系列空腔的模拟进行了验证，与帕金斯[3]的数值和实验结果非常吻合。
模型的物理定义
该模型是二维的，所用的过程溶液是水，假设水是不可压缩的牛顿流体。
A.控制方程:
速度场满足连续性和纳维尔-斯托克斯方程
结果和讨论
- 毯式晶圆清洗:
最初，模拟了兆频超声波清洗槽中单个晶片的清洗。如图1所示，兆频超声波束由位于储罐底部的浸入式换能器产生。将单个晶片平行于强超声波束放置。使用的工艺溶液是水。清洗过程中不使用溢出。
图2示出了晶片表面上钾的清洗随时间变化的实验和数值结果。实验和模拟结果的一致性对停滞浴是有利的。兆频超声波清洗流大大减少了清洗时间，因为振荡增加了污染物的传输速率。在有限的漂洗时间内，兆频超声波流动漂洗比静止浴具有更高的清洗效率。
使用相同的平均速度v0，图中显示了振荡流漂洗比稳定流漂洗具有更高的效率。在振荡流冲洗中，当流速v#0时，通过流腔外的压力差拖出空腔。为了稳定的流动清洗，即使离子污染从腔表面扩散，但由于缺乏对流的质量传输，大部分仍留在腔内。当一个稳定的流通过一个腔时，它会在腔内诱发一个大的单涡。污染物从腔表面扩散到腔的大部分。
结论
与停滞浴和稳定流冲洗相比，脉动(兆频超声波)流冲洗在毯式和图案化晶片冲洗中显示出显著的优势。它大大减少了毯式晶片清洗过程中的冲洗时间。涡流振荡机制显著增强了图案化晶片清洗的混合。使用兆频超声波清洗的沟槽使用。
《炬丰科技-半导体工艺》亚微米沟槽冲洗和清洁相关推荐
- 《炬丰科技-半导体工艺》减少化学品使用的清洁优化
书籍:<炬丰科技-半导体工艺> 文章:减少化学品使用的清洁优化 编号:JFKJ-21-993 作者:炬丰科技 引言 集成电路制造过程中通常使用的清洗化学物质已经使用了很多年.尽管已知各种清 ...
- 《炬丰科技-半导体工艺》单晶圆清洁工艺
书籍:<炬丰科技-半导体工艺> 文章:单晶圆清洁工艺 编号:JFKJ-21-492 作者:炬丰科技 摘要 接触层是器件与铝或铜互连之间的第一个金属(通常是钨)连接层.根据器件类型(CMOS ...
- 《炬丰科技-半导体工艺》一步清洁取代RCA两步清洁法用于Pre-Gate清洁
书籍:<炬丰科技-半导体工艺> 文章:一步清洁取代RCA两步清洁法用于Pre-Gate清洁 编号:JFHL-21-1030 作者:炬丰科技 引言 随着器件尺寸缩小到深亚微米级,半导体制造中 ...
- 《炬丰科技-半导体工艺》硅片上亚微米颗粒的去除方法
书籍:<炬丰科技-半导体工艺> 文章:硅片上亚微米颗粒的去除方法 编号:JFKJ-21-619 作者:炬丰科技 变形的亚微米颗粒的粘附和去除机理在以前的许多研究中没有被提及.亚微米聚苯乙烯 ...
- 《炬丰科技-半导体工艺》不破坏MEMS结构的颗粒去除方法
书籍:<炬丰科技-半导体工艺> 文章:不破坏MEMS结构的颗粒去除方法 编号:JFHL-21-1059 作者:炬丰科技 引言 MEMS (微机电系统)和集成电路的一体化,正如通过电容型传感 ...
- 《炬丰科技-半导体工艺》湿处理中的颗粒沉积和去除
书籍:<炬丰科技-半导体工艺> 文章:湿处理中的颗粒沉积和去除 编号:JFKJ-21-710 作者:炬丰科技 关键词:兆频超声波清洗.粒子沉积.粒子移除.晶圆湿式处理 摘要 从表面去除颗粒 ...
- 《炬丰科技-半导体工艺》 光刻胶的化学性质
书籍:<炬丰科技-半导体工艺> 文章:光刻胶的化学性质 编号:JFKJ-21-1186 作者:华林科纳 一般的光致抗蚀剂有各种各样的报告,但是与现在在第一线使用的光致抗蚀剂相比,还没有开发 ...
- 《炬丰科技-半导体工艺》单晶圆旋转清洗工艺
书籍:<炬丰科技-半导体工艺> 文章:单晶圆旋转清洗工艺 编号:JFKJ-21-449 从热力学和传输的角度研究了从半导体晶片上的纳米级特征中去除液体.热力学模型考虑特征中液体的各种圆柱对 ...
- 《炬丰科技-半导体工艺》硅片超声清洗方法及配置
书籍:<炬丰科技-半导体工艺> 文章:硅片超声清洗方法及配置 编号:JFKJ-21-316 作者:炬丰科技 摘要 通过增强微观蚀刻剂浓度均匀性和减少氢气泡粘附来形成亚微米级基本无缺陷硅结构 ...
最新文章
- php 正则获取数字,php结合正则获取字符串中数字的几种方法
- 离散制造业的数据采集之路
- 20211004 矩阵的子空间
- DHTMLX 前端框架 建立你的一个应用程序教程(二)--设置布局
- Python实现局域网（Socket)通信
- ubuntu解压和压缩文件
- 使用jOOQ的MockDataProvider破解简单的JDBC ResultSet缓存
- 信息学奥赛一本通（1173：阶乘和）
- mac的python换字体_Mac OSX Yosemite系统字体修改
- 巫师3储物箱在哪_巫师三孤岩宝箱在哪 | 手游网游页游攻略大全
- LDA模型实战(1)｜理解模型的假设、要素与学习
- 江苏省发布我国首个公路行业BIM省地方标准
- HSPICE MOS模型
- 数列随机分组matlab,MATLAB如何随机分组数据
- java基础 --- 求一元二次方程的根（分情况讨论）
- execute和submit的区别
- swift-集成touch id功能 指纹验证
- 如何禁止 Google Chrome 自动更新 (macOS, Linux, Windows)
- Python的自省函数
- 360需要的，不是打工者——周鸿祎在360新员工入职培训上的讲话